宏源清 | 核徑跡防偽
2019-10-08
核徑跡防偽技術(shù)是根據(jù)用戶要求的圖案通過(guò)成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級(jí)微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬(wàn)個(gè)，微孔在平面上按統(tǒng)計(jì)規(guī)律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過(guò)特殊工藝將薄膜與基材復(fù)合，再經(jīng)過(guò)印刷而制成客戶要求的防偽標(biāo)識(shí)。
而核徑跡模的生產(chǎn)，在國(guó)內(nèi)也只有術(shù)少數(shù)幾個(gè)單位可以做到，因?yàn)樗O(shè)備非常的昂貴，高度的唯一性決定了制假者不可能輕易做到，從而實(shí)惠它的獨(dú)特性，除此之外，還需要特殊的物理，化學(xué)，光學(xué)等學(xué)科技術(shù)的共同參與下才能完成。并且，其防偽圖案也是不可仿造的，市面上的放大鏡和掃描設(shè)備是無(wú)法掃摹。它一般會(huì)用到各種產(chǎn)品的盒子包裝上。
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